[올윈에듀]반도체입문과FAB공정실습(K-디지털기초)
일정
소개
반도체를 모르는 학습자, 문과생, 일반인도 이해할 수 있도록 반도체를 쉽게 풀어내는 반도체 공학 기초과정과 이공계 학생들에게 좀 더 깊게 들어가서 Clean Fab에서의 반도체 제작과정을 다루는 심화과정으로 나뉘어져 있는 과정
본 과정은 100% 정부환급 무료과정이며, 고용노동부 위탁훈련기관인 '올윈에듀'에서 공식 안내 드립니다.
1. 대상 : 졸업 4학기 이내 재학생, 졸업생(취준생), 우선지원기업 근무자
2. 기간 : 상시 개강 중(회차별 30명씩 선착순 마감)
3. 신청(링크) : 내일배움카드 신청 → HRD-Net 사이트 신청 → 올윈에듀 수강사이트 신청(내일배움카드 온라인 결제) → 온라인 개강(1개월)
3-1. 국민내일배움카드 신청: 평일기준 약 4일 후 수령
(HRD-Net 홈페이지 접속 → 메인페이지 국민내일배움카드 발급 신청)
* 발급시 유선 문의 : 1577-7114
3-2. HRD-Net 과정 신청(PC)
(HRD-Net 홈페이지 접속 → 메인페이지 과정 검색 '반도체 입문과 FAB 공정실습' → 수강 신청)
3-3. 올윈에듀 과정 신청(PC)
(allwinedu.co.kr 접속 → 회원가입 → 메인페이지 인기과정 '반도체 입문과 FAB 공정실습' 클릭 → 수강 신청 → 국민내일배움카드로 자부담 결제)
4. 과정특징 : 연세대학교 내에 설치된 FAB시설을 체험하는 형식의 토크+강의+리얼리티가 결합된 온라인 콘텐츠 / 수강기간 1개월
5. 교육비(무료) : 40만원 교육비 100% 정부 지원. 내일배움카드로 자부담 10%(4만원) 결제 후, 수료 후 전액 환급(무료)
6. 문의 : 1688-2447 (올윈에듀)
참가 대상
졸업 4학기 이내 재학생, 졸업생(취준생), 우선지원기업 근무자
학습 목표
커리큘럼
1) 반도체 입문과 FAB 공정실습
1차시 반도체 입문과 공학 기초 - 최초의 컴퓨터 ENIAC
2차시 반도체 입문과 공학 기초 - 쿨롱의 법칙과 진공관
3차시 반도체 입문과 공학 기초 - 휴대폰과 반도체
4차시 반도체 입문과 공학 기초 - Digital 회로와 MOS Transistor
5차시 반도체 입문과 공학 기초 - 전압, 전류 및 저항
6차시 반도체 입문과 공학 기초 - 회로패턴 형성의 원리
7차시 반도체 입문과 공학 기초 - 8대 공정과 플라즈마
8차시 반도체 입문과 공학 기초 - 최외각 전자와 도핑
9차시 반도체 입문과 공학 기초 - 실리콘웨이퍼와 반도체 제조원가
10차시 반도체 입문과 공학 기초 - Technology, Design Rule
11차시 반도체 입문과 공학 기초 - 반도체 칩 제조 과정 및 Wafer Probing, PCM
12차시 반도체 입문과 공학 기초 - Mask revision과 반도체 제품의 분류
13차시 반도체 입문과 공학 기초 - 메모리의 구조 및 DRAM 동작원리
14차시 반도체 입문과 공학 기초 - Charge-sharing, DDR
15차시 반도체 입문과 공학 기초 - NOR, NAND Flash Memory
16차시 반도체 입문과 공학 기초 - MLC, 3D-NAND flash
17차시 반도체 입문과 공학 기초 - 반도체 산업구조 및 System LSI Design Flow
18차시 Fab Operation & Production - Fab 내부구조 및 작업공간과 공정 흐름
19차시 Fab Operation & Production - Fab 제조 공정의 설비와 배치
20차시 Fab Operation & Production - 청정도 유지 및 관리
21차시 Fab Operation & Production - 수율 및 생산성 향상
22차시 Fab Operation & Production - Wafer 및 lot 구분 관리와 Fab 라인 운영 Tool
23차시 Fab Operation & Production - Wafer 계측/검사 및 Recipe/Product 관리
24차시 MOSFET GO - Orientation & FAB Tour
25차시 MOSFET GO - Gate Stack Process
26차시 MOSFET GO - Photo Process
27차시 MOSFET GO - Etch Process
28차시 MOSFET GO - S/D Implant Process
29차시 MOSFET GO - S/D Activation Process
30차시 MOSFET GO - Metal Mask & Deposition Process
31차시 MOSFET GO - Metal Lift-off Mask & FGA
32차시 MOSFET GO - Probe Station
33차시 MOSFET GO - Wrap up
멘토에 대한 후기